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罐体抛光机除去磨光时产生的损伤层
添加时间：2017-09-08
方管罐体抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织，罐体抛光机即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用最细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。
解决这个矛盾的最好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有最大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到最小。抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应绝对平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。
保温表里层接缝应相互错开，层间和缝间不得有空穴， 保温密度应包管在恒久运行中不致坍塌的密度。为包管金属掩护层外性的划一雅观，应得当设置金属骨架以支持金属掩护层。保温质料选用高温玻璃棉，容重为32千克每立方米。
保温质料必须满意保温性能，包管保温后(情况温度不高于25度时，保温布局外外貌温度不凌驾50度；情况温度高于25度时，保温布局外外貌温度可比情况温度高25度)。保温布局在计划利用寿命内应包管完备，在利用历程中不许出现烧坏、腐败、剥落等征象。保温布局应有充足的机器强度，在自重、振动、风雪等附加荷载的作用下不致破坏
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