平板抛光机将抛光分为两个阶段。粗磨的目的是去除磨损损伤层，使其达到最大的抛光速度。粗抛光造成的表面损伤是次要因素，但应尽可能小。二是完成（或最终抛光），消除表面粗糙造成的损坏，尽量减少抛光损坏。

　　平板抛光机抛光时，样品研磨表面和抛光盘应完全平行均匀地压在阀瓣上，防止样品因压力过大而飞出并产生新的磨损痕迹。同时，样品应旋转，并沿车轮半径来回移动，避免局部磨损过快，加入浆液，使抛光布保持一定的湿度。

　　高湿度降低了抛光的磨损效果，使样品中的硬相呈现出钢、非金属夹杂物和铸铁中石墨的拖尾现象。湿度太小，因为摩擦热会加热样品，降低润滑效果，磨削表面会失去光泽，甚至黑点，轻合金会抛出表面。

　　为了达到粗加工的目的，平板抛光机所需的速度较低，最好不要超过600r/min；由于变形层，抛光时间应大于去除划痕。粗抛光后，磨削表面光滑，但表面粗糙。显微镜下有均匀的细磨痕，需要消除。