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浅谈平板抛光机所采用的工作原理
添加时间:2022-04-15

   平板抛光机将抛光分为两个阶段。粗磨的目的是去除磨损损伤层,使其达到最大的抛光速度。粗抛光造成的表面损伤是次要因素,但应尽可能小。二是完成(或最终抛光),消除表面粗糙造成的损坏,尽量减少抛光损坏。

  平板抛光机抛光时,样品研磨表面和抛光盘应完全平行均匀地压在阀瓣上,防止样品因压力过大而飞出并产生新的磨损痕迹。同时,样品应旋转,并沿车轮半径来回移动,避免局部磨损过快,加入浆液,使抛光布保持一定的湿度。

  高湿度降低了抛光的磨损效果,使样品中的硬相呈现出钢、非金属夹杂物和铸铁中石墨的拖尾现象。湿度太小,因为摩擦热会加热样品,降低润滑效果,磨削表面会失去光泽,甚至黑点,轻合金会抛出表面。

  为了达到粗加工的目的,平板抛光机所需的速度较低,最好不要超过600r/min;由于变形层,抛光时间应大于去除划痕。粗抛光后,磨削表面光滑,但表面粗糙。显微镜下有均匀的细磨痕,需要消除。

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